臺式納米壓痕儀是一種常用的實驗設備，用于測試材料的硬度、彈性模量和抗變形性能等指標。它的使用方法如下：首先，將臺式納米壓痕儀放置在平穩的實驗臺上，并確保儀器的穩定性和水平度。接著，準備待測試的樣品。樣品應保持干凈，并盡量避免受到污染和損傷。如果需要，可將樣品切割成所需的尺寸和形狀。根據測試要求，選擇一個合適的壓頭。臺式納米壓痕儀通常配備多種不同硬度和形狀的壓頭，根據樣品的特性和測試目的選擇相應的壓頭。接下來，將壓頭安裝在儀器上。按照儀器的操作說明，將所選的壓頭固定在壓痕儀的頭...

離子束沉積系統(IonBeamDepositionSystem)是一種用于制備薄膜材料的高級實驗室設備。該系統利用離子束將材料原子或分子沉積在基板表面上，以制備具有特定物理和化學性質的薄膜。在使用離子束沉積系統時，需要注意以下幾點：1.安全操作離子束沉積系統通常涉及高電壓、高真空和高能量離子束等危險因素，因此必須采取嚴格的安全措施。操作人員應熟悉系統的操作程序，并穿戴適當的防護服和手套等裝備。2.適當的真空度離子束沉積系統的沉積過程需要在高真空環境下進行，否則會影響薄膜的品質...

離子束沉積是一種重要的表面修飾技術，能夠在材料表面形成致密、均勻和高質量的薄膜。為了確保離子束沉積系統的正常運行和長期使用，需要進行維護保養。首先，定期檢查離子束沉積系統的各個部件，包括真空室、離子源、樣品架等，確保它們沒有受損或存在任何異常情況。檢查后必須及時修理或更換故障的部件，以避免影響沉積質量。其次，保持離子束沉積系統的清潔和干燥。在使用過程中，應該及時清除真空室內的灰塵和雜物，定期使用干凈的布或吸塵器進行清潔。此外，也需要保持真空室內的濕度低于50%，避免對沉積薄膜...

離子束沉積作為納米結構的基本組成單元，團簇或納米顆粒在納米科學中具有關鍵的地位。我們設計研制了兩套氣體聚集型團簇源：基于熱蒸發的氣體聚集團簇束流源和磁控等離子體聚集型團簇源。以團簇源為中心構成了團簇束流實驗和沉積系統。在此基礎上我們開發了一系列金屬、合金、氧化物、氮化物納米粒子束流的制備流程。涉及的材料包括：Ag、Al、Pb、Sn、Pd、Cr、V、Tb、Fe、Cu等純金屬團簇及其合金團簇，C、Si、Ge、InSb、Te等非金屬團簇，SnO、CrO2、VO2、SiOx等氧化物團...

三維光學輪廓測量儀是利用光學顯微技術、白光干涉掃描技術、計算機軟件控制技術和PZT垂直掃描技術對工件進行非接觸測量，還原出工件3D表面形貌宏微觀信息，并通過軟件提供的多種工具對表面形貌進行各種功能參數數據處理，實現對各種工件表面形貌的微納米測量和分析的光學計量儀器。三維光學輪廓測量儀只需操作者裝好被測工件，在檢定軟件上設定物鏡倍率和測量模式后點擊“開始”按鈕，光學物鏡會對工件表面進行自動對焦和非接觸掃描，并按設定的位置進行測量，軟件界面會實時掃描物體宏微觀表面形貌;掃描結束后...

納米壓痕儀可輕松測量硬涂層，薄膜和少量材料。該儀器準確、靈活，并且用戶友好，可以提供壓痕、硬度、劃痕和通用納米級測試等多種納米級機械測試。可互換的驅動器能夠提供大動態范圍的力荷載和位移，使研究人員能夠對軟聚合物到硬質金屬和陶瓷等材料做出精確及可重復的測試。模塊化選項適用于各種應用：材料性質分布、特定頻率測試、刮擦和磨損測試以及高溫測試。微納米壓痕儀(高溫)通過在真空環境中單加熱jian端和樣品來測量高溫下的硬度、模量和硬度。INSEM®HT與掃描電子顯微鏡(SEM)和...

掃描熱學顯微鏡也是依靠原子力顯微鏡的成像模式，即熱導電率通過樣品表面使圖片發生改變的形式完成的。同其他模式(橫向力顯微鏡，磁力顯微鏡，靜電力顯微鏡等)，掃描力顯微鏡在獲得數據的同時能夠接收圖像方面的數據。這種掃描模式的制作是用靠近納米加工熱探針針尖頂部的電阻元件來代替標準的接觸模式懸臂來實現的。這個電阻與惠斯通電橋的電路的一端合并，從而允許系統來控制阻力。該阻力與探針尾部的溫度相關，惠斯通電橋也許就是被設計來一方面探測樣品的溫度，另一方面用來描繪樣品熱導電率的質量圖。樣品溫度...

隨著精密、超精密加工技術的發展，材料在納米尺度下的力學特性引起了人們的極大關注研究。而傳統的硬度測量方法只適于宏觀條件下的研究和應用，無法用于測量壓痕深度為納米級或亞微米級的硬度(即所謂納米硬度，nano-hardness)。近年來，測量納米硬度一般采用新興的納米壓痕技術(nano-indentation)，由于采用納米壓痕技術可以在極小的尺寸范圍內測試材料的力學性能，除了塑性性質外，還可反映材料的彈性性質，因此得到了越來越廣泛的應用。納米壓痕技術也稱深度敏感壓痕技術(Dep...